简要描述：日本进口 EBARA荏原螺杆式干式真空泵
荏原 EST 系列是螺杆式干式真空泵，定位在重负载、含粉尘 / 腐蚀性气体、高温制程，比 EV‑M（多级罗茨）更早一代、更偏 “重工业级" 干泵，常见于半导体 / 光伏 / 化工高负荷场景荏原製作所

一、基本定位与原理

• 类型：螺杆式干式真空泵（Oil‑free，无水冷）

• 原理：一对同步高速螺杆转子，容积式压缩；泵体主动高温控，让副产物（如 NH₄Cl）不冷凝、不沉积

• 核心用途：CVD、刻蚀、ALD、扩散等大量反应副产物 + 粉尘 + 腐蚀气的高负载制程

二、主要型号与参数（50/60Hz 通用）

• 冷却：水冷（3–8 L/min）

• 噪声：约 68–74 dBA

• 电源：三相 200–220V，50/60Hz 性能一致

三、核心特点（和 EV‑M、油泵区别）

1. 高温防沉积（最关键）

• 泵体主动加热 + 保温，维持高温，防止粉尘 / 盐类副产物冷凝结块

• 特别适合CVD、PECVD、LPCVD 这类大量副产物的制程

2. 强耐腐 + 高粉尘耐受

• 标准不锈钢 + 耐腐涂层；可选镍合金 / 镍镀层，可处理 Cl₂、HF、硅烷、氨气等

• 螺杆间隙大、抗粉尘能力强，比罗茨干泵更 “皮实"

3. 大流量、高负载稳定

• 螺杆结构高气体负荷稳定性，适合大腔室、大载气（N₂/Ar）抽气

• 配智能转速控制，空载降速、满载升速，节能 + 低磨损

4. 洁净 + 长维护周期

• 无油，无油雾污染，满足半导体洁净室要求

• 模块化设计，维护周期长，支持远程监控 / 预警

四、典型应用

• 半导体：CVD（LPCVD/PECVD/HDP‑CVD）、ALD、RTP、刻蚀、扩散

• 光伏 / 显示：薄膜沉积、PECVD、TCO 镀膜、OLED 制程

• 化工 / 工业：腐蚀性气体、粉尘气体、高温废气的无油抽气