简要描述：Osaka 大阪真空分子泵无油清洁型
干式真空泵（无油清洁型）全系列详细介绍 大阪真空干式泵全部为无油、干式、清洁型真空泵，主打半导体、FPD、锂电、镀膜、精密真空制程，分为螺杆式、爪式、涡旋式、多级罗茨干式四大主力系列，和他家分子泵配套组成高真空完整真空机组。

双螺杆转子无接触啮合，wan全无油，压缩比高、排气量大、耐腐蚀、低粉尘堆积。

主流型号（抽速 m³/h）

SDP‑250、SDP‑400、SDP‑600、SDP‑800、SDP‑1200

Osaka 大阪真空分子泵无油清洁型核心特点：

无油清洁，无返油污染，满足半导体洁净要求

可耐轻微粉尘、酸性 / 腐蚀性气体（刻蚀、CVD）

水冷 / 风冷可选，低噪音、低振动

支持 EtherCAT / RS485，可接入自动化产线

适用：

PVD、CVD、刻蚀、晶圆制程、真空镀膜、锂电注液 / 烘烤

二、CDP 系列 爪式干式真空泵（紧凑型、小型腔体**）

原理：

爪型转子干式压缩，结构简单、体积小、维护成本低。

主流型号：

CDP‑180、CDP‑250、CDP‑350

核心特点：

体积紧凑，适合设备内置、小型真空腔体

无油，低粉尘耐受性，日常维护简单

性价比高，中小型真空设备标配

适用：

小型镀膜、分析仪器、实验室、半导体辅助设备、检漏

三、VDP 系列 涡旋式干式真空泵（超高洁净、微流量精密型）

原理：

涡旋盘压缩，真正无油、无磨损、零微粒，洁净等级*高。

主流型号：

VDP‑30、VDP‑60、VDP‑100

核心特点：

超洁净，几乎无颗粒产生，适合超精密制程

振动极低、噪音小

小抽速，用于前级预抽、腔体粗抽

适用：

**半导体、超高真**级泵、质谱、分析仪器、光刻配套

四、MDP 系列 多级罗茨干式真空泵（大流量、高真空干式机组）

原理：

多级罗茨串联干式结构，大抽速 + 极限真空高，直接替代油式罗茨泵。

主流型号：

MDP‑1500、MDP‑2000、MDP‑3000

核心特点：

超大抽速，适合大型腔体、连续生产线

干式无油，耐腐蚀，可处理工艺废气

适合长时间 24h 连续运转

适用：

大型镀膜线、光伏、FPD 面板、大型热处理、半导体量产线

五、防腐专用系列（半导体刻蚀 / 沉积专用）

SDP‑O / CDP‑O 防腐型

转子 + 腔体做特氟龙涂层、耐氟 / 氯 / 酸性气体

专门应对刻蚀、PECVD、蚀刻废气、副产物粉尘

大阪真空干式泵防腐版本在日系品牌里口碑ji强

六、四大干式泵快速选型对比

精密洁净、小流量、超高真**级 → VDP 涡旋式

中小型腔体、性价比、设备内置 → CDP 爪式

半导体通用主力、耐腐蚀、中等大流量 → SDP 螺杆式

大型产线、超大抽速、量产设备 → MDP 多级罗茨式