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Osaka Vacuum大阪真空涡旋式干式真空泵

简要描述:Osaka Vacuum大阪真空涡旋式干式真空泵
干式真空泵(无油清洁型)全系列详细介绍 大阪真空干式泵全部为无油、干式、清洁型真空泵,主打半导体、FPD、锂电、镀膜、精密真空制程,分为螺杆式、爪式、涡旋式、多级罗茨干式四大主力系列,和他家分子泵配套组成高真空完整真空机组。

基础信息

产品型号

VDP- 60

厂商性质

经销商

更新时间

2026-06-12

浏览次数

31
详细介绍
品牌OSAKA/大阪真空供货周期两周
应用领域化工,能源,电子/电池,汽车及零部件,电气

Osaka Vacuum大阪真空涡旋式干式真空泵
Osaka Vacuum大阪真空涡旋式干式真空泵

SDP 系列 螺杆式干式真空泵(主力爆款,半导体通用)

原理

双螺杆转子无接触啮合,wan全无油,压缩比高、排气量大、耐腐蚀、低粉尘堆积。

主流型号(抽速 m³/h)

  • SDP‑250、SDP‑400、SDP‑600、SDP‑800、SDP‑1200

核心特点

  1. 无油清洁,无返油污染,满足半导体洁净要求

  2. 可耐轻微粉尘、酸性 / 腐蚀性气体(刻蚀、CVD)

  3. 水冷 / 风冷可选,低噪音、低振动

  4. 支持 EtherCAT / RS485,可接入自动化产线

适用

PVD、CVD、刻蚀、晶圆制程、真空镀膜、锂电注液 / 烘烤

二、CDP 系列 爪式干式真空泵(紧凑型、小型腔体**)

原理

爪型转子干式压缩,结构简单、体积小、维护成本低。

主流型号

CDP‑180、CDP‑250、CDP‑350

核心特点

  • 体积紧凑,适合设备内置、小型真空腔体

  • 无油,低粉尘耐受性,日常维护简单

  • 性价比高,中小型真空设备标配

适用

小型镀膜、分析仪器、实验室、半导体辅助设备、检漏

三、VDP 系列 涡旋式干式真空泵(超高洁净、微流量精密型)

原理

涡旋盘压缩,真正无油、无磨损、零微粒,洁净等级*高。

主流型号

VDP‑30、VDP‑60、VDP‑100

核心特点

  1. 超洁净,几乎无颗粒产生,适合超精密制程

  2. 振动极低、噪音小

  3. 小抽速,用于前级预抽、腔体粗抽

适用

**半导体、超高真**级泵、质谱、分析仪器、光刻配套


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