日本大阪真空Osaka Vacuum 涡轮分子泵
日本大阪真空Osaka Vacuum 涡轮分子泵

一、产品概述

核心定位

• 轴承类型：脂润滑滚珠轴承（区别于磁悬浮/油润滑，适配腐蚀性环境密封需求）

• 结构特点：防腐蚀一体化转子+耐腐涂层轴承+专用冷却流道，抗冲击、低振动、耐化学侵蚀

• 运行模式：高转速、高真空、宽压力区间（10⁻¹～10⁻⁷ Pa），适配多种腐蚀性气体介质

二、核心特性

1. 安装自由度

2. 耐冲击与可靠性

• 耐大气冲击：强化防腐蚀转子/轴承结构，可承受400次以上连续大气冲入，适配频繁启停、腔体开门/维修场景，避免腐蚀性残留损伤部件。

• 长寿命免维护：采用耐腐蚀专用润滑脂，无需补充润滑脂，大修周期2～3万小时，设计寿命＞10万小时，支持24/7连续运行，适配长期腐蚀性工况。

• 紧凑轻量化：同级别重量比磁悬浮泵轻30%+，适合空间受限与移动设备，泵体体积与TG-F系列一致，可直接替换TG-F系列用于腐蚀性工况。

3. 性能优势

• 高排气速度+高压缩比：N₂*高2400 L/s，H₂*高1300 L/s；N₂压缩比1×10⁸，H₂达4.3×10³，腐蚀性气体（如Cl₂、HF）压缩比达1×10⁷，适配腐蚀性气体抽排需求。

• 快速启停：启动时间5.5～9 min，停机时间12～32 min（依型号），停机后可通过可选吹扫功能**泵内腐蚀性残留。

• 低基础压力：极限真空＜1×10⁻⁶ Pa（7.5×10⁻⁹ Torr），耐腐蚀密封设计确保真空度稳定，避免气体泄漏影响真空环境。

4. 兼容性与适配性（核心差异化特性）

• 气体适配：专为腐蚀性气体设计，支持Cl₂、HF、HBr、NF₃、SiCl₄等常见半导体/化工腐蚀性气体，同时兼容N₂、Ar、H₂等惰性/常规气体，无需额外改装。

• 防腐蚀设计：泵体内部采用PTFE耐腐涂层，转子选用耐腐合金材质，密封件采用氟橡胶（Viton），有效抵御腐蚀性气体侵蚀，延长部件寿命。

• 冷却方式：风冷（A）/水冷（W）可选，水冷适配高负载/高温环境，同时辅助降低腐蚀性气体对泵体的热损伤，优化耐腐性能。

• 法兰规格：VG、ISO‑B、CF 三种标准法兰，适配主流真空接口，法兰密封面采用耐腐处理，避免密封失效导致气体泄漏。

5. 控制器与通讯

• 专用控制器：TC1103/TC1104（兼容TG-M系列），集成驱动、保护、显示功能，新增腐蚀性气体工况报警功能（如密封异常、气体残留超标）。

• 通讯接口：标配RS232C，支持远程监控与参数配置，可远程查看泵体运行状态、腐蚀性气体工况适配参数，便于批量管理。

• **认证：CE、SEMI‑S2、NRTL，符合工业**标准，新增耐腐蚀工况**认证，适配化工、半导体等高危腐蚀环境。