简要描述：进口ULVAC爱发科 HR多级罗茨干式真空泵
HR 是爱发科半导体腐蚀工艺专用干泵，多级罗茨无油结构，核心卖点全域高温均热化 + 强化防腐，专门适配 CVD、干法刻蚀、ALD 等会产生硅粉尘、卤素、升华副产物的严苛制程，区别于 LR 标准洁净型、LS 螺杆通用型、UR 超高温重型款

二、HR 核心技术（对比 LR/LS 最大差异）

1. 全域高温均热化（HR 标志性设计）

2. 强化防腐密封系统

1. 转子、腔体做高硬度特种耐蚀涂层，耐受氟、氯、硅粉尘、微量酸碱工艺气体；

2. 全机氦气屏蔽轴封，标配持续氮气吹扫（5SLM 标准），隔绝腐蚀性介质侵入轴承；

3. 内置全封闭屏蔽电机，无介质泄漏风险，适配半导体防爆洁净车间。

3. 工艺稳定配套设计

• 瞬停保护：耐受≤1000ms 电网断电冲击，刻蚀 / CVD 连续生产不报错；

• 智能通讯：标准 RS485，可读取真空、温度、吹扫流量、故障报警、运行时长，适配产线集中上位监控；

• 可选 ECO-SHOCK 节能模块：低负载待机模式，极限真空工况省电 70%~80%，大幅降低连续生产电费；

• 一体式消音器，运行噪音 68~72dB (A)，洁净车间可就近摆放。

4. 全干式无油结构

三、HR / LR / LS / UR 系列定位区分（选型关键）

1. HR 系列（高温防腐款）

   适用：PECVD、LPCVD、干法蚀刻、ALD、等离子去胶 / 灰化、硅工艺；处理含硅粉、卤素、升华腐蚀气体。

2. LR 系列（标准洁净款）

   适用：PVD、Loadlock 预抽、分子泵前级、光学镀膜；仅洁净氮气 / 空气，无强腐蚀副产物。

3. LS 螺杆系列（通用节能款）

   适用：锂电烘烤、真空冻干、通用工业干燥；常压抽速快、噪音极低，腐蚀耐受弱于 HR。

4. UR 系列（超高温重型款）

   适用：大流量高腐蚀量产刻蚀 / 薄膜线；泵体、排气管全程伴热，防腐等级高于 HR。

四、标准使用工况要求

1. 冷却：水冷，最小流量≥5L/min，水压 0.1~0.3MPa，水温≤25℃；水温过高会破坏均热防凝效果；

2. 吹扫氮气：干燥高纯 N₂，持续 5SLM，轴封 + 各级腔体分段吹扫，防止粉尘沉积；

3. 进气限制：不可直接抽大量液态溶剂、强酸原液、高粉尘无过滤进气，前端必须搭配工艺过滤器；

4. 环境：Class1000/10000 洁净厂房，通风良好，避免酸性废气聚集。

五、主流应用行业场景

半导体芯片制造（核心场景）

• 各类 CVD：氮化硅、氧化硅、多晶硅沉积排气；

• 干法刻蚀：硅刻蚀、金属层刻蚀、通孔刻蚀；

• ALD 原子层沉积、等离子灰化 / 光刻胶去除；

• MEMS、功率器件、第三代半导体工艺排气。

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