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日本进口ULVAC爱发科 UR多级罗茨干式真空泵

简要描述:日本进口ULVAC爱发科 UR多级罗茨干式真空泵
UR 是HR 系列升级顶配款,爱发科半导体最严苛腐蚀 / 高沉积工艺旗舰干泵,定位超高温全域均热、顶级防腐、重粉尘高卤素工况,对标 HR 但温控、防腐、防沉积能力全面拉满,专用于 ALD、重沉积 CVD、大产能干法刻蚀、长晶炉等高粉尘强腐蚀产线

基础信息

产品型号

UR1800

厂商性质

经销商

更新时间

2026-06-30

浏览次数

13
详细介绍
品牌ULVAC/日本爱发科供货周期两周
应用领域化工,能源,电子/电池,汽车及零部件,电气

日本进口ULVAC爱发科 UR多级罗茨干式真空泵
日本进口ULVAC爱发科 UR多级罗茨干式真空泵

一、核心定位:LR / HR / UR 三级温控区分

系列泵体恒温区间工艺等级核心适用
LR低温均热(60–90℃)洁净轻度工艺PVD、Loadlock、无腐蚀镀膜
HR高温均热(120–150℃)标准腐蚀工艺普通 CVD、常规干法刻蚀、灰化
UR超高温全域伴热(150–200℃)重度腐蚀 / 高沉积硬工艺ALD、多晶硅 LPCVD、金属刻蚀、硅长晶、大量氯化铵 / 氟化物副产物

二、UR 系列主流型号参数表

型号50Hz 抽速 (m³/h)60Hz 抽速 (m³/h)极限真空 (Pa)电机功率进气法兰整机重量
UR421-T4105980.0530kWISO100415kg
UR6006537000.0537kWISO100460kg
UR1200109011700.00545kWISO160530kg
UR1800175019200.00555kWISO160620kg
UR3601358044500.00575kWISO200880kg
供电:三相 200V/400V 50/60Hz,标配强制水冷 + 管路伴热接口

三、UR 核心技术(对比 HR 优势)

1. 全域超高温均热 + 进出口管路伴热一体化

  1. 全多级转子腔体恒温150~200℃,高于 HR 最高 150℃阈值;

  2. 进气口、泵腔、排气段全程同步控温,支持外接排气管伴热

  3. 杜绝 NH₄Cl、金属氟化物、硅氯化物低温冷凝结块,HR 无外置管路伴热功能,重沉积工艺极易堵泵;

  4. 连续 24h 量产运行,泵腔积粉量比 HR 降低 70% 以上,大幅拉长保养周期。

2. 顶级强化防腐系统

  1. 转子、气缸、各级隔板采用双层超硬防腐涂层,耐 HF、HCl、Cl₂、各类卤素腐蚀介质;HR 仅单层防腐涂层;

  2. 全段多级分段氦气屏蔽轴封,轴封吹扫氮气流量比 HR 提升 40%,阻挡粉尘侵入轴承;

  3. 全封闭屏蔽防爆电机(Canned Motor),真空腔与润滑油腔隔离,零介质泄漏风险,适配晶圆洁净防爆车间。

3. 高粉尘耐受结构

  • 罗茨转子加大间隙设计,不易卡粉;

  • 各级腔体预留吹扫分支,可分段通入高纯 N₂冲刷沉积粉体;

  • 大口径进出气法兰,不易堵管,适配硅长晶、多晶硅 CVD 超大粉尘工况。

4. 产线工业级配套功能

  1. 1000ms 电网瞬停保护:突发断电恢复后自动重启,刻蚀 / ALD 连续生产不宕机;

  2. 标配 RS485 工业通讯,可远程读取温度、真空、吹扫流量、累计运行时长、故障代码;

  3. 可选 ECO-SHOCK 节能模块:极限真空待机工况节电最高 80%,大幅降低大厂电费;

  4. 一体式加厚消音箱体,运行噪音 70~74dB (A),支持洁净车间就近摆放;

  5. 全机水冷强化回路,大流量冷却水通道,超高温工况不超温报警。

四、标准使用条件

  1. 冷却水:水压 0.2~0.5MPa,最小流量≥6L/min,进水温度≤22℃(水温过高会削弱超高温均热效果);

  2. 吹扫介质:干燥高纯氮气,总吹扫流量 8~12SLM(高于 HR 的 5SLM);

  3. 前端必须配套工艺粉尘过滤器,禁止无过滤直抽高浓度粉体;

  4. 环境:Class1000/10000 半导体洁净厂房,通风良好,废气管路全程保温伴热。

五、专属应用场景(HR 无法替代)

1. 先进半导体前端制程(核心)

  • ALD 原子层沉积(氧化铝、氮化铝等高升华副产物工艺)

  • LPCVD 多晶硅、氮化硅、氧化硅批量沉积(大量硅粉尘 + 氯化铵)

  • 金属层干法刻蚀、高深宽比通孔刻蚀(高氟 / 氯腐蚀气体)

  • 硅单晶长晶炉、外延炉排气(超大流量硅粉体)

  • 第三代半导体 SiC/GaN 刻蚀、薄膜沉积

2. 显示 / 光伏产线

Mini/Micro OLED 金属薄膜刻蚀、光伏多晶硅沉积设备主抽泵

3. 科研重型真空设备

离子注入、高温等离子清洗、高腐蚀真空热处理炉

六、UR / HR / LR / LS 选型速判

  1. 选 UR:ALD、LPCVD 多晶、金属刻蚀、硅长晶、副产物易升华结块、需要排气管伴热、24h 重度腐蚀量产线

  2. 选 HR:常规 PECVD、硅刻蚀、等离子灰化,无大量氯化铵沉积、无需管路伴热

  3. 选 LR:PVD 溅射、Loadlock 预抽、分子泵前级、洁净无腐蚀氮气 / 空气工艺

  4. 选 LS 螺杆:锂电烘烤、冻干、通用干燥、追求静音低功耗,无腐蚀粉尘







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