简要描述：ULVAC爱发科LR系列低温多级罗茨干式真空泵
LR 是半导体 / 显示标准洁净主力干泵，水冷多级罗茨、低温全域均热、屏蔽式氦密封电机，主打PVD 溅射、光学蒸镀、Loadlock 装载腔高频预抽；可独立直抽大气，洁净度、循环稳定性优于 GR 经济型，温控防腐弱于 HR/UR 腐蚀专用泵，是镀膜产线标配前级干泵

全系列主流型号参数表

三、LR 核心技术（与 GR/HR 关键区分）

1. 低温均热系统（标志性设计）

• 对比 GR：GR 无加热，水汽易结露积垢；

• 对比 HR：HR120~150℃高温，适配腐蚀工艺，LR 仅适合洁净轻度工况。

2. 屏蔽式氦气密封电机（高洁净核心）

3. DRP 标准防腐涂层

4. 高频循环耐受设计

5. 工业级稳定配套

• 1000ms 电网瞬停保护，断电恢复自动重启，产线不宕机；

• 分段氮气吹扫回路，阻挡粉尘侵入轴承；

• 整机减震底座，运行噪音 68~72dB (A)，洁净车间就近摆放；

• 支持搭配 PRC 机械增压泵串联，大幅提升中真空抽速。

四、标准使用工况要求

1. 冷却水：流量≥5L/min，水压 0.1~0.3MPa，进水温度≤25℃，水温过高破坏均热防凝效果；

2. 吹扫氮气：干燥高纯 N₂，标准总流量 5SLM，轴封 + 各级腔体分段吹扫；

3. 进气限制：仅洁净空气 / 氮气、微量水汽；前端必须配粉尘过滤器，禁止强酸、氟氯腐蚀气体直抽；

4. 环境：Class1000/10000 无尘厂房，通风良好。

五、适用行业场景

1. 半导体 / 显示面板（主力）

• PVD 溅射、光学蒸镀、OLED/LCD 薄膜沉积设备主抽泵；

• 晶圆 Loadlock 装载腔快速预抽、多腔体并行抽气；

• 分子泵 (TMP) 配套前级泵、真空检漏台；

• 无腐蚀、无大量副产物的轻度 CVD 制程。

2. 精密工业