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2026
6-2
真空泵未来五年(2026-2030)应用场景全景分析报告
一、半导体行业(核心增量赛道,年均增速20%+)核心应用场景1.晶圆制造:EUV光刻、干法刻蚀、CVD/ALD薄膜沉积、离子注入、晶圆清洗、去胶工艺2.先进制程:3nm/2nm及以下制程量产、12/18英寸大尺寸晶圆产线建设3.第三代半导体:SiC/GaN外延生长、功率半导体芯片制程加工4.先进封装:2.5D/3D封装、晶圆键合、TSV通孔、扇出型封装5.检测量测:半导体精密检测、电子显微镜、探针台真空环境搭建场景需求特点对真空度要求(10⁻⁴~10⁻⁸Pa),具备高洁净、无...
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