产品分类-
产品型号
M02-L41X -
厂商性质
经销商 -
更新时间
2026-07-11 -
浏览次数
12
产品描述
日本进口EYE岩崎 UV金属卤素 进口EYE岩崎 UV金属卤素 半导体专用超高压曝光光源（晶圆 / 光刻核心）超高压水银曝光灯（步进机 / 光刻机专用） 超高光强、光谱稳定，用于硅晶圆线路曝光、LCD 面板光刻、PCB 干膜曝光 弯曲灯头特殊结构，适配光刻机光学光路，洁净室专用水冷款无气流干扰
相关文章
产品型号
M02-L41X厂商性质
经销商更新时间
2026-07-11浏览次数
12产品描述
日本进口EYE岩崎 UV金属卤素 进口EYE岩崎 UV金属卤素 半导体专用超高压曝光光源（晶圆 / 光刻核心）超高压水银曝光灯（步进机 / 光刻机专用） 超高光强、光谱稳定，用于硅晶圆线路曝光、LCD 面板光刻、PCB 干膜曝光 弯曲灯头特殊结构，适配光刻机光学光路，洁净室专用水冷款无气流干扰
产品型号
M02-L41厂商性质
经销商更新时间
2026-07-11浏览次数
12产品描述
日本进口EYE岩崎 UV金属卤素 进口EYE岩崎 UV金属卤素 半导体专用超高压曝光光源（晶圆 / 光刻核心）超高压水银曝光灯（步进机 / 光刻机专用） 超高光强、光谱稳定，用于硅晶圆线路曝光、LCD 面板光刻、PCB 干膜曝光 弯曲灯头特殊结构，适配光刻机光学光路，洁净室专用水冷款无气流干扰
产品型号
M008-L41厂商性质
经销商更新时间
2026-07-11浏览次数
14产品描述
日本进口EYE岩崎 UV金属卤素 进口EYE岩崎 UV金属卤素 半导体专用超高压曝光光源（晶圆 / 光刻核心）超高压水银曝光灯（步进机 / 光刻机专用） 超高光强、光谱稳定，用于硅晶圆线路曝光、LCD 面板光刻、PCB 干膜曝光 弯曲灯头特殊结构，适配光刻机光学光路，洁净室专用水冷款无气流干扰
产品型号
M15-L31 / M15-L31X厂商性质
经销商更新时间
2026-07-11浏览次数
13产品描述
日本进口EYE岩崎 UV金属卤素 进口EYE岩崎 UV金属卤素 半导体专用超高压曝光光源（晶圆 / 光刻核心）超高压水银曝光灯（步进机 / 光刻机专用） 超高光强、光谱稳定，用于硅晶圆线路曝光、LCD 面板光刻、PCB 干膜曝光 弯曲灯头特殊结构，适配光刻机光学光路，洁净室专用水冷款无气流干扰
产品型号
M13-L31 / M13-L31X厂商性质
经销商更新时间
2026-07-11浏览次数
14产品描述
日本进口EYE岩崎 UV金属卤素 进口EYE岩崎 UV金属卤素 半导体专用超高压曝光光源（晶圆 / 光刻核心）超高压水银曝光灯（步进机 / 光刻机专用） 超高光强、光谱稳定，用于硅晶圆线路曝光、LCD 面板光刻、PCB 干膜曝光 弯曲灯头特殊结构，适配光刻机光学光路，洁净室专用水冷款无气流干扰