-
产品型号
MO03-L21/E -
厂商性质
经销商 -
更新时间
2026-07-11 -
浏览次数
13
产品描述
日本进口EYE岩崎 UV金属卤素 进口EYE岩崎 UV金属卤素 半导体专用超高压曝光光源(晶圆 / 光刻核心)超高压水银曝光灯(步进机 / 光刻机专用) 超高光强、光谱稳定,用于硅晶圆线路曝光、LCD 面板光刻、PCB 干膜曝光 弯曲灯头特殊结构,适配光刻机光学光路,洁净室专用水冷款无气流干扰
相关文章
产品型号
MO03-L21/E厂商性质
经销商更新时间
2026-07-11浏览次数
13产品描述
日本进口EYE岩崎 UV金属卤素 进口EYE岩崎 UV金属卤素 半导体专用超高压曝光光源(晶圆 / 光刻核心)超高压水银曝光灯(步进机 / 光刻机专用) 超高光强、光谱稳定,用于硅晶圆线路曝光、LCD 面板光刻、PCB 干膜曝光 弯曲灯头特殊结构,适配光刻机光学光路,洁净室专用水冷款无气流干扰
产品型号
MO02-L21厂商性质
经销商更新时间
2026-07-11浏览次数
14产品描述
日本进口EYE岩崎 UV金属卤素 进口EYE岩崎 UV金属卤素 半导体专用超高压曝光光源(晶圆 / 光刻核心)超高压水银曝光灯(步进机 / 光刻机专用) 超高光强、光谱稳定,用于硅晶圆线路曝光、LCD 面板光刻、PCB 干膜曝光 弯曲灯头特殊结构,适配光刻机光学光路,洁净室专用水冷款无气流干扰
产品型号
MO01-L21厂商性质
经销商更新时间
2026-07-11浏览次数
11产品描述
日本进口EYE岩崎 UV金属卤素 进口EYE岩崎 UV金属卤素 半导体专用超高压曝光光源(晶圆 / 光刻核心)超高压水银曝光灯(步进机 / 光刻机专用) 超高光强、光谱稳定,用于硅晶圆线路曝光、LCD 面板光刻、PCB 干膜曝光 弯曲灯头特殊结构,适配光刻机光学光路,洁净室专用水冷款无气流干扰
产品型号
MO006-L21厂商性质
经销商更新时间
2026-07-11浏览次数
12产品描述
日本进口EYE岩崎 UV金属卤素 进口EYE岩崎 UV金属卤素 半导体专用超高压曝光光源(晶圆 / 光刻核心)超高压水银曝光灯(步进机 / 光刻机专用) 超高光强、光谱稳定,用于硅晶圆线路曝光、LCD 面板光刻、PCB 干膜曝光 弯曲灯头特殊结构,适配光刻机光学光路,洁净室专用水冷款无气流干扰
产品型号
H12-L41W-BEND厂商性质
经销商更新时间
2026-07-11浏览次数
12产品描述
日本进口EYE岩崎 H-W水冷超高压汞曝光灯 EYE岩崎 H-W水冷高压汞灯 半导体专用超高压曝光光源(晶圆 / 光刻核心)超高压水银曝光灯(步进机 / 光刻机专用) 超高光强、光谱稳定,用于硅晶圆线路曝光、LCD 面板光刻、PCB 干膜曝光 弯曲灯头特殊结构,适配光刻机光学光路,洁净室专用水冷款无气流干扰