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  • H20-L31W日本进口EYE岩崎 H-W水冷超高压汞曝光灯
    H20-L31W日本进口EYE岩崎 H-W水冷超高压汞曝光灯

    产品型号

    H20-L31W

    厂商性质

    经销商

    更新时间

    2026-07-11

    浏览次数

    12

    产品描述

    日本进口EYE岩崎 H-W水冷超高压汞曝光灯 EYE岩崎 H-W水冷高压汞灯 半导体专用超高压曝光光源(晶圆 / 光刻核心)超高压水银曝光灯(步进机 / 光刻机专用) 超高光强、光谱稳定,用于硅晶圆线路曝光、LCD 面板光刻、PCB 干膜曝光 弯曲灯头特殊结构,适配光刻机光学光路,洁净室专用水冷款无气流干扰
  • H15-L31W日本进口EYE岩崎 H-W水冷超高压汞曝光灯
    H15-L31W日本进口EYE岩崎 H-W水冷超高压汞曝光灯

    产品型号

    H15-L31W

    厂商性质

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    2026-07-11

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    日本进口EYE岩崎 H-W水冷超高压汞曝光灯 EYE岩崎 H-W水冷高压汞灯 半导体专用超高压曝光光源(晶圆 / 光刻核心)超高压水银曝光灯(步进机 / 光刻机专用) 超高光强、光谱稳定,用于硅晶圆线路曝光、LCD 面板光刻、PCB 干膜曝光 弯曲灯头特殊结构,适配光刻机光学光路,洁净室专用水冷款无气流干扰
  • H13-L31W日本进口EYE岩崎 H-W水冷超高压汞曝光灯
    H13-L31W日本进口EYE岩崎 H-W水冷超高压汞曝光灯

    产品型号

    H13-L31W

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    2026-07-11

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    日本进口EYE岩崎 H-W水冷超高压汞曝光灯 EYE岩崎 H-W水冷高压汞灯 半导体专用超高压曝光光源(晶圆 / 光刻核心)超高压水银曝光灯(步进机 / 光刻机专用) 超高光强、光谱稳定,用于硅晶圆线路曝光、LCD 面板光刻、PCB 干膜曝光 弯曲灯头特殊结构,适配光刻机光学光路,洁净室专用水冷款无气流干扰
  • H09-L31W日本进口EYE岩崎 H-W 水冷超高压汞曝光灯
    H09-L31W日本进口EYE岩崎 H-W 水冷超高压汞曝光灯

    产品型号

    H09-L31W

    厂商性质

    经销商

    更新时间

    2026-07-11

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    11

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    日本进口EYE岩崎 H-W 水冷超高压汞曝光灯 EYE岩崎 H-W水冷高压汞灯 半导体专用超高压曝光光源(晶圆 / 光刻核心)超高压水银曝光灯(步进机 / 光刻机专用) 超高光强、光谱稳定,用于硅晶圆线路曝光、LCD 面板光刻、PCB 干膜曝光 弯曲灯头特殊结构,适配光刻机光学光路,洁净室专用水冷款无气流干扰
  • H06-L31W日本进口EYE岩崎 H-W水冷超高压汞曝光灯
    H06-L31W日本进口EYE岩崎 H-W水冷超高压汞曝光灯

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    H06-L31W

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    经销商

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    2026-07-11

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    日本进口EYE岩崎 H-W水冷超高压汞曝光灯 EYE岩崎 H-W水冷高压汞灯 半导体专用超高压曝光光源(晶圆 / 光刻核心)超高压水银曝光灯(步进机 / 光刻机专用) 超高光强、光谱稳定,用于硅晶圆线路曝光、LCD 面板光刻、PCB 干膜曝光 弯曲灯头特殊结构,适配光刻机光学光路,洁净室专用水冷款无气流干扰
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