简要描述：日本IWAKI易威奇TC-X/TTD 系列气动隔膜泵
IWAKI易威奇是日本的化工泵与流体控制设备制造商，在半导体湿法工艺、化学品输送与精密 dosing 领域应用广泛，核心产品以高纯度 PTFE/PFA 泵浦与智能流体控制器为主，适配高纯、耐腐蚀、低颗粒的制程要求。

日本IWAKI易威奇TC-X/TTD 系列气动隔膜泵
日本IWAKI易威奇TC-X/TTD 系列气动隔膜泵

C-X/TTD 系列 气动隔膜泵（强腐蚀 / 大流量）

材质：Virgin PTFE 隔膜与泵体，耐受强酸、强碱、溶剂及浆料。

规格：6 种流量范围，Class 100 洁净室制造

TCX 系列（工业级，强腐蚀 / 大流量，非高纯）
接液材质：PPG / GFRPP / PVDF / 铝 / SUS（非全 PTFE）
压力：最高 0.7 MPa温度：0–60℃（标准），0–80℃（HT）

特点：可干转、自吸、输送含大颗粒浆料、防爆（气动）、维护简单

全型号与核心参数（按口径从小到大）

TD 核心特点（半导体关键）

全 PTFE 接液：无金属、无橡胶，杜绝金属离子（Na/K/Fe/Cu）污染

低颗粒设计：洁净室组装、无油润滑、PTFE 阀与隔膜，颗粒等级 ≤0.1 μm

耐高温：标准 120℃，H 型 150℃，适配高温湿法（如 120℃磷酸）

低脉动：配合缓冲器可做到 ≤0.02 MPa 脉动，适合精密循环

1. 

SEMI 合规：符合 SEMI S2（安全）、SEMI S8（污染控制）

TTD 运用场景（半导体高纯湿法）

晶圆清洗（RCA/SC1/SC2/DHF）：输送高纯氨水、双氧水

刻蚀制程（BOE、磷酸刻蚀）：高纯 BOE（ buffered HF）、高温磷酸（150℃）

CMP 浆料循环：高纯抛光液（硅溶胶 / 氧化铝浆料），低颗粒、无金属污染

光刻 / 显影：高纯显影液、剥离液、光刻胶稀释液（微量颗粒敏感）

化学品输送与分配：Fab 内高纯化学品柜（Chem Cabinet）输送
再生 / 回收：高纯酸回收、超纯水循环