简要描述：日本进口IWAKI易威奇IX-D 系列高精度计量泵
IX‑D 系列（高精度电机驱动计量泵）
IX‑D 是 IWAKI 大流量高精度计量泵，属于 Hi‑Techno 数控直驱隔膜泵，主打 ±1% 精度、750:1 超宽调节比、低脉动、全通讯，半导体常用在 化学品精密配比、补充、pH / 浓度闭环加药

一、全型号与核心参数（IX‑D 只有 2 个基础型号）

1）IX‑D150（中流量）

• 流量范围：0.2–150 L/h（50/60 Hz）

• 最高压力：1.0 MPa（10 bar）

• 调节比：750:1

• 泵头材质

• PVDF（T 型）：0–50°C，耐强酸强碱

• SUS316（S6 型）：0–80°C，卫生 / 高温工况

• 隔膜：PTFE 复合隔膜（耐腐、低析出）

• 接口：3/4" NPT / 法兰

• 重量：约 28 kg

• 功率：约 60 W

2）IX‑D300（大流量）

• 流量范围：0.4–300 L/h（50/60 Hz）

• 最高压力：0.5 MPa（5 bar）

• 调节比：750:1

• 泵头材质：PVDF（T）/ SUS316（S6），同 D150

• 温度：PVDF 0–50°C；SUS316 0–80°C

• 接口：1" NPT / 法兰

• 重量：约 35 kg

• 功率：约 110 W

型号命名示例（便于选型）

• IX‑D300TEN‑RF‑2：D300 + PVDF 泵头 + 模拟 / 脉冲通讯 + 右置控制器

• IX‑D150S6‑1：D150 + SUS316 泵头 + 标准控制器

二、核心技术特点（半导体关键）

1. 数控直驱，±1% 高精度

   独立控制吸入 / 吐出速度，全流量范围精度 ±1%，远高于传统计量泵（±3–5%）。
2. 750:1 超宽调节比

   一台泵覆盖 0.2–300 L/h，减少备件、简化系统。
3. 低脉动，稳定给药

   仅调节吐出速度，冲程固定，脉动极低，配合缓冲器可做到接近无脉冲，适合光刻胶、显影液等敏感药液。
4. 全 PTFE 接液（可选）

   PVDF/PTFE 隔膜 + 泵头，无金属离子析出，满足半导体高纯要求（SEMI S2/S8）。
5. 丰富通讯与控制

• 手动（MAN）

• 模拟量（4–20 mA / 0–20 mA）

• 脉冲控制（0.0156 mL / 脉冲起）

• Profibus‑DP 通讯（Fab 自动化集成）

6. 节能 70%，低发热

   螺旋齿轮 + 辅助弹簧设计，功耗比传统泵降 70%，适合 24 h 连续运行。

三、半导体行业运用场景（精准、高纯、闭环）

1. 湿法刻蚀（BOE、磷酸、HF）

• 用途：刻蚀液 精准补充、浓度闭环控制

• 推荐型号：IX‑D150T（PVDF）

• 理由：耐 HF/BOE，±1% 精度，配合 W600 控制器做 pH / 浓度自动补加。

2. 晶圆清洗（RCA/SC1/SC2/DHF）

• 用途：氨水、双氧水、稀 HF 精密配比与添加

• 推荐型号：IX‑D150T / IX‑D300T

• 理由：低脉动、无金属污染，防止晶圆表面颗粒 / 金属残留。

3. CMP 制程（浆料、抛光液）

• 用途：浆料稀释、添加剂微量投加、液位 / 电导率闭环

• 推荐型号：IX‑D150T

• 理由：低脉动防颗粒团聚，PTFE 接液不污染浆料。

4. 化学镀 / 电镀（镀铜 / 镍 / 金）

• 用途：镀液金属离子补充、pH/ORP 精密调节

• 推荐型号：IX‑D150S6（SUS316，高温）

• 理由：80°C 耐高温，配合 W600 控制器做 金属浓度 + pH 双闭环。

5. 超纯水（UPW）与化学品配送

• 用途：酸碱再生剂精准投加、高纯药液批量输送

• 推荐型号：IX‑D300T

• 理由：大流量（300 L/h）、低脉动、长寿命，适合 Fab 中央化学品配送。

6. 光刻 / 显影（显影液、剥离液）

• 用途：显影液浓度微调、剥离液定量输送

• 推荐型号：IX‑D150T

• 理由：低脉动、无颗粒，防止光刻胶图案缺陷。

四、IX‑D 与 IX‑C / TC‑X 快速区别（选型不踩坑）

• IX‑D：0.2–300 L/h，0.5–1.0 MPa，±1%，电机直驱 → 半导体高纯 / 精密加药

• IX‑C：0.08–150 L/h，0.4–1.0 MPa → 中小流量精密加药

• TC‑X/TTD：隔膜泵，大流量 / 强腐蚀，精度 ±3–5% → 输送 / 循环，不做精密配比

五、半导体推荐型号清单