简要描述：日本IWAKI易威奇CFD/PDS 系列 微量定量泵
CFD 系列（高纯微量补充泵，气动风囊式）
定位：半导体超高精度微量补液，主打 1 mL/shot 级、全氟材质、低颗粒、带漏液检测，用于清洗 / 刻蚀微量添加。

1）全型号与核心参数

• CFD‑1T‑B（基础微量型）

• 单冲程吐出量：0.4–2.7 mL/shot（默认 1 mL/shot）

• 最大压力：0.05 MPa

• 最大冲程：30 spm（≈30 mL/min）

• 接液材质：PTFE / PFA / PCTFE（全氟，无金属）

• 温度：20–60°C

• 精度：重复性 ±1%

• 特色：防虹吸、标配漏液传感器、光学位置反馈

• CFD‑8T‑B（中微量型）

• 单冲程吐出量：8 mL/shot（固定）

• 其余参数同 CFD‑1T‑B（压力、冲程、材质、温度）

）核心特点（半导体关键）

• 全氟无金属：PTFE/PFA 接液，零金属离子析出，满足 SEMI S2/S8。

• 超高分辨率：1 mL/shot 级精准补液，杜绝过量添加。

• 低颗粒：风囊结构 + PFA 软管，内壁光滑颗粒残留＜0.1 μm。

• 安全设计：防虹吸+漏液传感器，风囊破损立即报警。

• 易集成：气动驱动，可与清洗机 / 刻蚀机 PLC 联动。

3）运用场景

• 晶圆单片清洗（RCA/SC1/SC2）：微量氨水、双氧水、稀 HF 精准补加（0.4–2.7 mL/shot）。

• 湿法刻蚀（BOE、稀磷酸）：低浓度刻蚀液微量补充，浓度闭环控制。

• CMP 浆料：微量添加剂 / 稳定剂定量投加，防颗粒团聚。

• 光刻 / 显影：显影液、剥离液微量补给，低脉动不影响图案。

• 化学品柜（Chem Cabinet）：高纯药液终端微量分配。