简要描述：进口IWAKI易威奇CFD/PDS 系列微量定量泵
PDS 系列（高精度分配泵，电机驱动风囊式）
定位：中微量高精度定量分配，主打 5–12 mL/shot、高粘度适配、高压、可输送光刻胶，用于涂覆 / 显影 / 高粘药液。

1）全型号与核心参数

• PDS‑105R（标准型）

• 单冲程吐出量：5 mL/shot

• 最大压力：0.15 MPa

• 接液材质：PTFE / PFA / 精细陶瓷

• 温度：15–25°C（常温）

• 粘度：≤1,000 mPa・S

• 精度：重复性 ±0.5%

• PDS‑H115（高精度 / 高粘型，半导体主力）

• 单冲程吐出量：12 mL/shot（最大）

• 最大压力：1.0 MPa（高压）

• 吐出速度：0.5–2.0 mL/sec

• 吸入速度：0.3–2.0 mL/sec

• 接液材质：PTFE / PFA / 陶瓷

• 温度：0–60°C

• 粘度：≤10,000 mPa・S（超高粘，可送光刻胶）

• 精度：重复性 ±0.3%（业界顶尖）

• 特色：后拉式维护（不拆配管）、单元模块化、长寿命

2）核心特点

• 超高精度：±0.3% 重复精度，光刻胶 / 显影液分配无偏差。

• 高粘度适配：10,000 mPa·S，可直接输送光刻胶、厚胶、高浓度剥离液。

• 高压输出：1.0 MPa，适配长距离 / 高阻力管路。

• 全氟 + 陶瓷：无金属、耐强酸强碱，兼容 HF、BOE、SPM。

• 低脉动：风囊式结构，脉动＜0.01 MPa，防光刻胶气泡 / 团聚。

• 易维护：后拉式设计，无需拆管即可更换风囊 / 阀件，减少停机。

3）运用场景

• 光刻胶涂覆（Spin Coater）：PDS‑H115 专用，精准分配 5–12 mL / 片，高粘光刻胶（5,000–10,000 mPa・S）稳定输送，无气泡、无颗粒。

• 显影 / 剥离工艺：显影液、光刻胶剥离液（高粘）定量供给，浓度稳定。

• 晶圆清洗（批量 / 单片）：大流量微量补液（5–12 mL/shot），适配高压喷淋。

• CMP 抛光液：高固含浆料精准投加，防沉淀、防颗粒团聚。

• 化学品配送：高纯酸碱 / 溶剂中微量定量输送，高压长距离。

三、CFD vs PDS 选型速览（半导体）

四、半导体推荐清单（直接用）

• 微量补液（清洗 / 刻蚀） → CFD‑1T‑B（1 mL/shot）

• 中微量补液 → CFD‑8T‑B（8 mL/shot）

• 光刻胶涂覆 / 高粘分配 → PDS‑H115（12 mL/shot，±0.3%）

• 标准中微量 → PDS‑105R（5 mL/shot）