简要描述：KASHIYAMA樫山工业SDE系列 螺杆式真空泵
核心业务与技术定位
主业：高精密真空泵研发与制造，兼顾滑雪设备等小众产品线。
定位：全球半导体 / 显示行业干式真空泵主流供应商，以清洁、节能、高可靠著称。
核心优势：
无油无水干式真空技术，避免污染，适配半导体严苛工艺。
长寿命、低振动、易维护，适配 24/7 连续生产。
高能效：较旧机型节能约 20%。

SDE 系列（螺杆式，半导体刻蚀 / CVD 主力）

型号与参数（最大抽速 L/min/ 极限压力 Pa）

• SDE200：3,300 L/min / 0.5 Pa
• SDE303X：5,000 L/min / 0.5 Pa
• SDE603X：10,000 L/min / 0.5 Pa
• SDE1203TX：20,000 L/min / 0.3 Pa
• SDE20N12TX：30,000 L/min / 0.3 Pa
• SDE30N20：50,000 L/min / 0.3 Pa
• SDE60N20：100,000 L/min / 0.3 Pa

2. 极限真空（到达压力）

• 小型号（90X/120TX/200）：1.3 Pa

• 大型号（303X 及以上）：0.5 Pa

3. 电源与功耗

• 电源：三相 AC200–220V / 380–480V，50/60Hz

• 功耗（kW）：

• SDE90X：1.3

• SDE120TX：2.8

• SDE200：2.7

• SDE303X：1.5/3.0（标准 / 变频）

• SDE603X：1.6/3.1

• SDE1203TX：2.0/3.2

4. 关键结构与材质

• 结构：立式螺杆转子，无油干式压缩，全程无润滑油

• 材质：转子 / 腔体不锈钢 + 陶瓷涂层，耐 HCl、Cl₂、HF 等腐蚀性气体与粉尘

• 冷却：风冷 + 高效温控，适应高负载连续运行

三、核心特点（区别于普通干泵）

1. 无油洁净：chedi无油，零油蒸气污染，满足半导体 Class 1 洁净要求

2. 强耐腐蚀：涂层 + 温控，耐受刻蚀 / 沉积副产物、酸性气体、粉尘

3. 大排量 + 高真空：抽速覆盖1,300–100,000 L/min，极限真空低至0.5 Pa

4. 节能高效：变频可选，比传统干泵节能 20–30%

5. 长寿命低维护：结构坚固，24/7 连续运行，维护周期长

四、典型运用场景（按行业）

1. 半导体（最核心）

• 12 寸晶圆厂：刻蚀（Etch）、沉积（CVD/PVD）、清洗（Cleaning）、CMP 后干燥

• 优良制程：7nm/5nm/3nm，对洁净度、稳定性、耐腐蚀要求jigao

• 封装测试：高真空吸附、等离子清洗、键合 / 封装真空腔

2. 显示面板（LCD/OLED）

• 大尺寸基板：G8.5/G10.5，镀膜、蒸镀、刻蚀、脱泡

• OLED：有机层蒸镀、腔体高真空维持，无油污染保障良品率

3. 新能源

• 光伏：硅片镀膜、电池片真空层压、组件脱气

• 锂电池：极片真空干燥（露点≤-40℃）、注液、电芯封装

4. 化工 / 制药

• 精细化工：反应釜真空、溶剂回收（VOCs）、蒸馏 / 精馏

• 制药：冻干机（GMP）、无菌包装、原料药真空干燥

5. 科研 / gaoduan制造

• 加速器、同步辐射、真空镀膜、光学器件、高校 / 研究所高真空系统

五、型号选型建议

• 小制程 / 小腔室：SDE90X/120TX（1,300–1,500 L/min）

• 中制程 / 标准腔室：SDE200/303X（3,300–5,000 L/min）

• 大制程 / 12 寸 / 大面板：SDE603X/1203TX（10,000–20,000 L/min）

• 超大排量 / 特殊工况：SDE20N12TX 及以上（30,000–100,000 L/min）