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日本DIC eFLOW3AP超纯水防静电装置

简要描述:日本DIC eFLOW3AP超纯水防静电装置
eFLOW 是 DIC 依托自研中空纤维透气膜(SEPARAL 膜技术)开发、半导体行业专用的超纯水防静电设备,核心通过精准溶入 CO₂调控超纯水电阻率,消除清洗制程静电损伤,原厂**产品,日韩 / 国内晶圆、面板厂主流标配设备。 日本 DIC eFLOW 系列超纯水防静电装置全型号清单(半导体晶圆清洗专用,CO₂溶入式纯水防静电)

基础信息

产品型号

eFLOW 3AP-B01

厂商性质

经销商

更新时间

2026-06-08

浏览次数

40
详细介绍
品牌DIC/迪爱生供货周期两周

日本DIC eFLOW3AP超纯水防静电装置
日本DIC eFLOW3AP超纯水防静电装置
一、工作原理


  1. 超纯水(DIW)从中空纤维膜内侧流过,CO₂气体从膜外侧透过致密透气膜溶解进纯水(膜只透气、不透水);

  2. CO₂溶于水电离出微量离子,提升纯水导电能力、降低电阻率;

  3. 设备通过配比CO₂饱和水 + 原生超纯水的混合比例,闭环精准控制出水电阻率,稳定抑制静电积累,杜绝清洗时静电击穿晶圆线路、粉尘静电吸附问题。

配套 CO₂溶解模组原厂质保5 年,寿命远优于同类竞品。
型号处理流量 (L/min)内置膜芯模组
eFLOW 1AP-B021~16PF-001L-NA×1
eFLOW 2AP-B015~30PF-001L-ND2×2
eFLOW 3AP-B0110~50PF-001L-ND3×2

2.C 型(Cabinet,落地柜式,自带 CO₂气瓶仓,大流量)

型号适用流量 (L/min)
1AC-P2011~16
2AC-P2015~30
3AC-P20110~50
工况参数:进水压力 0.1~0.3MPa(瞬时承压≤0.5MPa)、水温 10~40℃(防冻结冰)、设备供电 AC100V/24V,单台净重 9~100kg(小机型约 9kg)

二、C 系列(Cabinet 柜式整机,带 CO₂气瓶仓 + 电阻率自控,落地一体机)

型号处理流量 (L/min)内置膜芯模组
eFLOW 1AC-P2011~16PF-001L-NA×1
eFLOW 2AC-P2015~30PF-001L-ND2×2
eFLOW 3AC-P20110~50PF-001L-ND3×2

三、配套中空纤维脱气膜芯(替换耗材型号)

  1. PF-001L-NA(适配 1AP/1AC 机型)

  2. PF-001L-ND2(适配 2AP/2AC 机型)

  3. PF-001L-ND3(适配 3AP/3AC 机型)

四、特殊定制大流量型号

  1. eFLOW 5AC/5AP:70~100L/min 超大流量定制款

  2. 30A-L1:小型简易 CO₂防静电单元(紧凑型模组)

三、核心产品优势

  1. 电阻率稳定性ji强:du有分流管路设计,流量波动下出水阻值波动极小,对比国产设备控值精度提升 60%,适配高精度晶圆切割 / 湿法清洗;

  2. 故障率低:无精密泵阀、无动态密封结构,模块化构造,运维简单;

  3. 低水压损耗:DIC 中空纤维膜低压渗透,管路压降小,不用额外增压泵,节省纯水站改造成本;

  4. 多功能拓展:除 CO₂调质防静电,更换模组可实现纯水脱氧、制备弱酸性功能清洗水、锅炉给水除氧。

四、主流应用场景(半导体 / 光电为主)

  1. 半导体晶圆:硅片 DICING 切割清洗、湿法槽洗、SC 清洗、Wafer 高压喷淋;

  2. 面板 / 光学:LCD/OLED 基板清洗、掩模版 / 光罩清洗,防止静电击穿像素线路;

  3. 精密电子:PCB 超细线路清洗、元器件超纯水漂洗;

  4. 其他:光伏硅片清洗、精密五金超纯水防静电喷淋、超声波清洗线调质用水。

五、拓展补充

eFLOW 隶属于 DIC SEPARAL 膜系产品线,同系列还有 EF/PF 系列单支脱气 / 供气膜元件(仅模组、无电控柜体),eFLOW 是集成电控 + 混水 + CO₂供气的成套整机设备,多用于产线终端纯水调质段。


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