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| 品牌 | KASHIYAMA/日本 | 供货周期 | 两周 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 化工,能源,电子/电池,航空航天,电气 |
日本樫山工业Kashiyama大型罗茨干式真空泵
日本樫山工业Kashiyama大型罗茨干式真空泵
大抽速 + 高真空：抽速覆盖25,000–60,000 L/min，极限压力0.8 Pa，适配大型腔体高速抽气。
多级罗茨 + 无油洁净：多级非接触罗茨转子，wan全无油，无粉尘磨损，满足半导体 / 面板高洁净要求。
纯风冷 + 节能：无需冷却水，风冷散热；高效电机 + 低损耗转子，能耗比同级别水冷泵低约 20%。
长维护周期：氮气 / 空气工况下标准维护间隔 6 年，显著降低停机成本。
强蒸汽 / 溶剂处理：内置大容量气镇 + 耐腐蚀材质，可处理水蒸气、IPA、丙酮等溶剂蒸汽。
低噪低振 + 紧凑：噪音≤75 dB(A)，振动≤10μm；立式紧凑设计，节省安装空间。
| 型号 | *大抽速 (L/min) | 极限压力 (Pa) | 前级泵抽速 (L/min) | 重量 (kg) | 电源 |
|---|---|---|---|---|---|
| SDL12E50 | 25,000 | 0.8 | 8,000 | 645 | 3φ 200–440V |
| SDL20E50 | 40,000 | 0.8 | 8,000 | 800 | 3φ 200–440V |
| SDL36E60 | 60,000 | 0.8 | 10,000 | 920 | 3φ 200–440V |
| SDL3600 | 60,000 | 0.8 | 12,500 | 950 | 3φ 200–440V |
半导体制造：大型晶圆（300mm/450mm）刻蚀、CVD、PVD、ALD、真空焊接、测试 / 封装。
FPD / 光伏：LCD/OLED 面板、太阳能电池板的镀膜、刻蚀、清洗、干燥制程。
工业真空：大型中央真空系统、真空热处理、真空浸渍、大型腔体（L/L Chamber）高速抽气。
科研 / **制造：大型真空舱、航天模拟、高能物理、质谱 / SEM 联用（高真空端）。
| 对比项 | NeoDry E 系列 | SDL 系列 |
|---|---|---|
| 定位 | 小型风冷干泵（实验室 / 中小工业） | 大型风冷干泵（半导体 / 大型工业） |
| 抽速 | 110–5,000 L/min | 25,000–60,000 L/min |
| 极限压力 | 0.3–5.0 Pa | 0.8 Pa |
| 重量 | 19–125 kg | 645–950 kg |
| 维护周期 | 3–6 年 | 6 年 |
| 应用场景 | 实验室、洁净室、小型制程 | 半导体、FPD、大型中央真空 |
抽速匹配：按腔体容积、抽气时间、漏率选择，大型腔体优先 SDL36E60/SDL3600。
极限压力：高真空需求（≤1Pa）选 SDL 系列；普通真空（1–10Pa）可选 E 系列。
蒸汽负载：含水汽 / 溶剂时，必选带气镇型号，必要时加冷阱。
电源适配：标准三相 AC200–220V/380–440V，50/60Hz 通用。
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