SHINKO 新光電気_第(3)页-玉崎半导体(深圳)有限公司

产品分类

PRODUCT CLASSIFICATION

SHINKO 新光電気

SC-J-200-HSHINKO新光電気 ESC陶瓷静电吸盘8寸晶圆

产品型号
SC-J-200-H

厂商性质
经销商

更新时间
2026-07-13

浏览次数
25

产品描述
SHINKO新光電気 ESC陶瓷静电吸盘8寸晶圆新光電気工业（SHINKO）日本原厂陶瓷静电吸盘为半导体前道核心部件，覆盖 6/8/12 英寸晶圆（最大 φ300mm），自研氧化铝陶瓷体系，分库仑型 Coulomb、JR 迥斯热背型两大吸附原理，陶瓷烧结 - 电极埋入 - 粘接基座 - 精密加工全制程自产，配套刻蚀 Etch、灰化 Ashing、CVD/PVD、离子注入设备
SC-J-200SHINKO新光電気 ESC陶瓷静电吸盘8寸晶圆

产品型号
SC-J-200

厂商性质
经销商

更新时间
2026-07-13

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28

产品描述
SHINKO新光電気 ESC陶瓷静电吸盘8寸晶圆新光電気工业（SHINKO）日本原厂陶瓷静电吸盘为半导体前道核心部件，覆盖 6/8/12 英寸晶圆（最大 φ300mm），自研氧化铝陶瓷体系，分库仑型 Coulomb、JR 迥斯热背型两大吸附原理，陶瓷烧结 - 电极埋入 - 粘接基座 - 精密加工全制程自产，配套刻蚀 Etch、灰化 Ashing、CVD/PVD、离子注入设备
SC-C-200-UHP-MH3SHINKO新光電気 ESC陶瓷静电吸盘8寸晶圆

产品型号
SC-C-200-UHP-MH3

厂商性质
经销商

更新时间
2026-07-13

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24

产品描述
SHINKO新光電気 ESC陶瓷静电吸盘8寸晶圆新光電気工业（SHINKO）日本原厂陶瓷静电吸盘为半导体前道核心部件，覆盖 6/8/12 英寸晶圆（最大 φ300mm），自研氧化铝陶瓷体系，分库仑型 Coulomb、JR 迥斯热背型两大吸附原理，陶瓷烧结 - 电极埋入 - 粘接基座 - 精密加工全制程自产，配套刻蚀 Etch、灰化 Ashing、CVD/PVD、离子注入设备
SC-C-200-AlN-MH3SHINKO新光電気 ESC陶瓷静电吸盘8寸晶圆

产品型号
SC-C-200-AlN-MH3

厂商性质
经销商

更新时间
2026-07-13

浏览次数
22

产品描述
SHINKO新光電気 ESC陶瓷静电吸盘8寸晶圆新光電気工业（SHINKO）日本原厂陶瓷静电吸盘为半导体前道核心部件，覆盖 6/8/12 英寸晶圆（最大 φ300mm），自研氧化铝陶瓷体系，分库仑型 Coulomb、JR 迥斯热背型两大吸附原理，陶瓷烧结 - 电极埋入 - 粘接基座 - 精密加工全制程自产，配套刻蚀 Etch、灰化 Ashing、CVD/PVD、离子注入设备
SC-C-200-AlN-HSHINKO新光電気 ESC陶瓷静电吸盘8寸晶圆

产品型号
SC-C-200-AlN-H

厂商性质
经销商

更新时间
2026-07-13

浏览次数
22

产品描述
SHINKO新光電気 ESC陶瓷静电吸盘8寸晶圆新光電気工业（SHINKO）日本原厂陶瓷静电吸盘为半导体前道核心部件，覆盖 6/8/12 英寸晶圆（最大 φ300mm），自研氧化铝陶瓷体系，分库仑型 Coulomb、JR 迥斯热背型两大吸附原理，陶瓷烧结 - 电极埋入 - 粘接基座 - 精密加工全制程自产，配套刻蚀 Etch、灰化 Ashing、CVD/PVD、离子注入设备

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