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日本樫山工业Kashiyama MU节能型干式泵

简要描述:日本樫山工业Kashiyama MU节能型干式泵
樫山 MU‑GX 系列(节能型干式泵) 定位:MU‑GX 是 MU‑X 系列的升级款,主打超节能、小型化、水冷、高真空,面向半导体 / 镀膜 / 分析仪器等高洁净、高精度工艺。

基础信息

产品型号

MU1200GX

厂商性质

经销商

更新时间

2026-06-11

浏览次数

43
详细介绍
品牌KASHIYAMA/日本供货周期两周
应用领域化工,能源,电子/电池,汽车及零部件,电气

日本樫山工业Kashiyama MU节能型干式泵
日本樫山工业Kashiyama MU节能型干式泵

核心参数(2026 新)

型号抽速 (L/min)极限真空 (Pa)功耗 (kW)尺寸 (mm) L×W×H重量 (kg)
MU100GX1,6601.50.35230×575×53055
MU180GX3,0000.50.50230×575×53060
MU300GX5,0000.50.55275×580×62580
MU600GX10,0000.50.85275×580×62595
MU1200GX20,0000.50.95275×635×680110
  • 电源:三相 200V/400V(50/60Hz)

  • 冷却:水冷(0.2–0.5MPa),噪音 ≤52dB

  • 接口:进气 NW40/NW80,排气 NW40

二、关键特点(对比 MU‑P/H/ MU‑X)

  1. 超节能(*大优势)

    • 比 MU‑P/H 省电 40%–50%;比 MU‑X 再省 10%–15%

    • 低负载变频,待机功耗 <0.1kW。

  2. 小型化 + 水冷

    • 体积比 MU‑P/H 小 30%–40%,重量轻 20%–30%。

    • 水冷散热,无油、低粉尘、低振动,适合洁净室。

  3. 高洁净 + 高真空

    • 腔体 / 转子:不锈钢 + 陶瓷涂层,无油污染。

    • 极限真空 0.5Pa(高款),满足半导体 / 镀膜高要求。

  4. 智能控制

    • 标配 Modbus‑RTU,可选变频、远程监控、自诊断。

    • 支持 N₂ 吹扫(0–30 SLM),防腐蚀、防结露。

四、适用场景

  • 半导体:刻蚀、沉积、离子注入、晶圆清洗(高洁净)。

  • 镀膜 / 光学:溅射、蒸发、PECVD、OLED(高真空 + 低振动)。

  • 分析仪器:质谱、SEM、XRD(低噪音 + 高稳定)。

  • 精密化工:蒸馏、干燥、结晶(无油污染 + 节能)。

五、选型建议

  • 预算紧、常规洁净 → MU‑X(性价比高)。

  • 高洁净、高精度、长期运行 → MU‑GX(节能 + 小型化)。

  • 腐蚀 / 高温 / 高水汽 → MU‑H(强化耐久)。

  • 大流量、重工况 → SD 系列


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