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SHINKO新光電気 智能集成 ESC陶瓷静电吸盘

简要描述：SHINKO新光電気 智能集成 ESC陶瓷静电吸盘
新光電気工业（SHINKO）日本原厂陶瓷静电吸盘为半导体前道核心部件，覆盖 6/8/12 英寸晶圆（最大 φ300mm），自研氧化铝陶瓷体系，分库仑型 Coulomb、JR 迥斯热背型两大吸附原理，陶瓷烧结 - 电极埋入 - 粘接基座 - 精密加工全制程自产，配套刻蚀 Etch、灰化 Ashing、CVD/PVD、离子注入设备

基础信息

产品型号

SEI-S-300-MH8

厂商性质

经销商

更新时间

2026-07-13

浏览次数

24

产品分类

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品牌SHINKO/日本新光

SHINKO新光電気 智能集成 ESC陶瓷静电吸盘
SHINKO新光電気 智能集成 ESC陶瓷静电吸盘

核心通用参数

  1. 陶瓷基材：高纯氧化铝 Al₂O₃（标准）、定制 AlN 氮化铝高导热款

  2. 陶瓷厚度：0.8～10.0mm 按需定制

  3. 工作温区：-20℃ ～ +200℃

  4. 表面工艺：氦沟槽、微凸点 emboss、粗糙度定制、等离子耐蚀涂层

  5. 内置结构：单 / 多区加热层、双极 / 单极埋入电极、铜 / 铝水冷基座、氦气冷却流道

两大类型 ESC 选型对比

项目SC-C 库仑型SC-J JR 迥斯热背型
吸附力中等，高电压稳定强，低压即可饱和吸附
漏电流极低，几乎无漏电可控微量漏电流（JR 原理bi备）
温控均匀性一般（单区为主）ji佳，多分区可选
适用工艺灰化、PVD、成熟制程 CVD干法刻蚀、离子注入、优良 PECVD
成本较低偏高（gao端产线主流）
翘曲晶圆适配差优秀，超薄硅片不滑移

8 英寸 φ200mm（量产通用）

  1. SC-C-200：标准无加热

  2. SC-C-200-H：单区加热（PVD / 灰化标配）

  3. SC-C-200-MH3：三区独立温控

  4. SC-C-200-MH5：五区多温区

  5. SC-C-200-AlN-H：AlN 高导热单加热

  6. SC-C-200-AlN-MH3：AlN 三区控温

  7. SC-C-200-UHP-MH3：超高纯三区

12 英寸 φ300mm

  1. SC-C-300：无加热基础款

  2. SC-C-300-H：单区加热

  3. SC-C-300-MH3 / MH5：3/5 分区温控

  4. SC-C-300-AlN-MH5：氮化铝 5 区

  5. SC-C-300-UHP：优良沉积低颗粒款

应用场景汇总

  1. 干法蚀刻 Etch（SC-J 全系列主力）

  2. PECVD/HDPCVD 薄膜沉积（SC-C、SC-J 通用）

  3. PVD 金属 / 介质溅射

  4. 等离子灰化、去光阻 Ashing（SC-C 为主）

  5. 离子注入机晶圆载台

  6. SiC/GaN 第三代半导体专用定制 SC-T 系列

  7. 12 寸优良逻辑、存储产线 SEI-S 智能系列


























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