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| 品牌 | KASHIYAMA/日本 | 供货周期 | 两周 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 化工,能源,电子/电池,汽车及零部件,电气 |
樫山工业Kashiyama MU无油干式真空泵
樫山工业Kashiyama MU无油干式真空泵
| 型号 | 抽速 (L/min) | 极限真空 (Pa) | 功耗 (kW) | 尺寸 (mm) L×W×H | 重量 (kg) |
|---|---|---|---|---|---|
| MU100P/H | 1,660 | 0.5 | 0.7 | 630×350×360 | 70 |
| MU180P/H | 3,000 | 0.5 | 1.0 | 715×360×408 | 130 |
| MU300P/H | 5,000 | 0.5 | 0.9 | 630×350×520 | 110 |
| MU600P/H | 10,000 | 0.5 | 0.95 | 870×380×751 | 130 |
| MU1218P/H | 20,000 | 0.5 | 1.4 | 870×380×751 | 280 |
| MU20N18P/H | 30,000 | 0.5 | 1.5 | 1000×450×950 | 410 |
| MU30N18P/H | 50,000 | 0.5 | 1.6 | 1000×450×950 | 410 |
材质与密封
腔体 / 转子:不锈钢 + 陶瓷涂层,耐弱酸、轻微粉尘。
密封:氟橡胶 + PTFE 复合,兼容多数有机溶剂与酸碱气体。
高耐久设计(MU‑H)
加强冷却水道 +内置加热防冷凝。
标配热氮气吹扫(0–60 SLM),防止酸性气体凝结腐蚀。
轴承 / 齿轮强化,连续 24h 运行寿命≥40,000h。
洁净与低能耗
全程无油,高洁净(无油污染),适配半导体 / 镀膜 / 分析仪器。
比同规格 SD 系列省电 30%–50%,噪音≤55dB。
智能控制
标配Modbus‑RTU,可选变频、远程监控、自诊断、故障报警。
半导体:刻蚀、沉积、离子注入、晶圆清洗。
镀膜 / 光学:真空溅射、蒸发、PECVD、OLED 制程。
化工 / 制药:蒸馏、干燥、结晶、溶剂回收(轻度腐蚀)。
热处理:真空退火、淬火、钎焊炉(高温 / 水汽)。
分析仪器:质谱、SEM、XRD、真空腔体配套。
常规工况、轻度腐蚀 → MU‑P(性价比高)。
高温、高湿、连续 24h、频繁清洗 → MU‑H(强化耐久)。
强腐蚀(HCl/HF/Cl₂) → 选SDT/SDH或定制防腐款。
预算紧、小流量洁净 → MU‑X(轻量经济型)。
MU‑X:轻量经济型,抽速 1,660–10,000 L/min,价格低 20%–30%,适合普通洁净工艺。
MU‑P/H:工艺耐久型,抽速 1,660–50,000 L/min,强化密封 / 冷却 / 吹扫,适配腐蚀 / 高温 / 连续运行。
SD 系列:大流量工业型,抽速 10,000–100,000 L/min,更高真空、更大抽速、更重,适合大流量制程。