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| 品牌 | KASHIYAMA/日本 | 供货周期 | 两周 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 化工,能源,电子/电池,汽车及零部件,电气 |
日本樫山工业Kashiyama MU节能型干式泵
日本樫山工业Kashiyama MU节能型干式泵
| 型号 | 抽速 (L/min) | 极限真空 (Pa) | 功耗 (kW) | 尺寸 (mm) L×W×H | 重量 (kg) |
|---|---|---|---|---|---|
| MU100GX | 1,660 | 1.5 | 0.35 | 230×575×530 | 55 |
| MU180GX | 3,000 | 0.5 | 0.50 | 230×575×530 | 60 |
| MU300GX | 5,000 | 0.5 | 0.55 | 275×580×625 | 80 |
| MU600GX | 10,000 | 0.5 | 0.85 | 275×580×625 | 95 |
| MU1200GX | 20,000 | 0.5 | 0.95 | 275×635×680 | 110 |
电源:三相 200V/400V(50/60Hz)
冷却:水冷(0.2–0.5MPa),噪音 ≤52dB
接口:进气 NW40/NW80,排气 NW40
超节能(*大优势)
比 MU‑P/H 省电 40%–50%;比 MU‑X 再省 10%–15%。
低负载变频,待机功耗 <0.1kW。
小型化 + 水冷
体积比 MU‑P/H 小 30%–40%,重量轻 20%–30%。
水冷散热,无油、低粉尘、低振动,适合洁净室。
高洁净 + 高真空
腔体 / 转子:不锈钢 + 陶瓷涂层,无油污染。
极限真空 0.5Pa(高款),满足半导体 / 镀膜高要求。
智能控制
标配 Modbus‑RTU,可选变频、远程监控、自诊断。
支持 N₂ 吹扫(0–30 SLM),防腐蚀、防结露。
半导体:刻蚀、沉积、离子注入、晶圆清洗(高洁净)。
镀膜 / 光学:溅射、蒸发、PECVD、OLED(高真空 + 低振动)。
分析仪器:质谱、SEM、XRD(低噪音 + 高稳定)。
精密化工:蒸馏、干燥、结晶(无油污染 + 节能)。
预算紧、常规洁净 → MU‑X(性价比高)。
高洁净、高精度、长期运行 → MU‑GX(节能 + 小型化)。
腐蚀 / 高温 / 高水汽 → MU‑H(强化耐久)。
大流量、重工况 → SD 系列。