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| 品牌 | KASHIYAMA/日本 | 供货周期 | 两周 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 化工,能源,电子/电池,汽车及零部件,电气 |
Kashiyama日本樫山工业干式真空泵NeoDry G 系列是樫山工业（Kashiyama）旗下，面向半导体与**制程的新一代超节能干式真空泵，属于 MU‑GX 的国际版 / 升级线，核心定位：高效、洁净、低噪、智能。
一、定位与关系：
品牌：樫山工业（Kashiyama）
系列：NeoDry G（简称 ND‑G）
对应国内型号：MU‑GX 系列（同平台，命名差异）
定位：替代传统 MU‑P/H、MU‑X，主打节能 + 小型化 + 高真空 + 智能化，对标国际一线干式泵。
二、Kashiyama日本樫山工业干式真空泵核心参数：（主流型号，2026）
| 型号 | 抽速 (L/min) | 极限真空 (Pa) | 功耗 (kW) | 重量 (kg) | 冷却 |
|---|---|---|---|---|---|
| ND100G | 1,660 | 1.5 | 0.35 | 55 | 水冷 |
| ND180G | 3,000 | 0.5 | 0.50 | 60 | 水冷 |
| ND300G | 5,000 | 0.5 | 0.55 | 80 | 水冷 |
| ND600G | 10,000 | 0.5 | 0.85 | 95 | 水冷 |
| ND1200G | 20,000 | 0.5 | 0.95 | 110 | 水冷 |
电源：三相 200V/400V（50/60Hz）
噪音：≤52dB（比同级别低 3–5dB）
接口：进气 NW40/NW80，排气 NW40
材质：腔体 / 转子不锈钢 + 陶瓷涂层，无油高洁净
三、关键优势：（对比老款 MU 系列）
节能（*大卖点）
比 MU‑P/H 省电 40%–50%
比 MU‑X 再省 10%–15%
待机功耗<0.1kW，长期运行电费显著降低
小型化 + 轻量化
体积比 MU‑P/H 小 30%–40%，重量轻 20%–30%
节省洁净室空间，安装更灵活
高真空 + 高洁净
极限真空可达 0.5Pa，满足半导体刻蚀、沉积等严苛工艺
无油设计，腔体涂层防腐蚀、防粉尘，适配高洁净环境
智能控制 + 低维护
标配 Modbus‑RTU，支持远程监控、自诊断、变频调速
支持 N₂ 吹扫（0–30 SLM），防结露、防腐蚀，延长寿命
四、适用场景：
半导体：刻蚀、PECVD、离子注入、晶圆清洗
光学 / 镀膜：溅射、蒸发、OLED、真空热处理
分析仪器：质谱、SEM、XRD（低噪音 + 高稳定）
精密化工：蒸馏、干燥、结晶（无油污染 + 节能）
五、与樫山其他系列的区别：
NeoDry G（MU‑GX）：超节能 + 小型化 + 高真空，****
MU‑X：标准节能型，性价比高，常规洁净工艺
MU‑P/H：通用 / 耐腐蚀型，重工况、高水汽、腐蚀环境
SD 系列：大流量螺杆泵，抽速 10,000–100,000 L/min，整线大系统
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