-
技术文章
大阪真空分子泵:超高真空环境的无油洁净动力源
在半导体精密制程、光学镀膜、科研实验等前沿领域,超高真空环境的洁净度与稳定性,是决定工艺精度与产品良率的核心前提。大阪真空分子泵作为真空获取设备,凭借无油洁净、运行稳定、适配性强的核心特质,成为超高真空工况的动力设备,可为精密工业制程提供纯净、无干扰的真空环境。本文通过序号分点解析其技术原理、核心优势、选型逻辑与行业应用价值。一、核心工作技术原理大阪真空分子泵采用成熟的涡轮分子增压技术,依托多级动静叶片交错结构完成气体输送作业。运行时,高速运转的转子叶片持续撞击真空腔体内的气...
+
-
技术文章
放眼世界和未来,站在半导体制造的前沿
半导体是人工智能、物联网和5G等塑造人类未来的各项技术bu可或que的基础。半导体制造环境与我们生活的环境截然不同。干式真空泵通过高速旋转精密加工的转子,利用真空抽吸的方式排出气体,从而在半导体制造设备内部创造洁净空间;废气处理系统则将这些气体转化为对环境无害的形式。这些产品通过节省空间、节能减排和减少温室气体排放,满足了半导体行业客户对环保实践的需求。此外,CMP系统采用先进的控制技术,对晶圆表面进行**抛光,从而实现纳米级(nm)的加工精度。在半导体高性能不断提升的制造技...
+
-
技术文章
什么是半导体制造设备?
半导体技术为我们日常生活中bu可或que的各种设备提供支持,包括电脑、智能手机、家用电器、汽车和医疗设备。日益精密的半导体制造工艺需要纳米级精度的加工设备。融合多种技术的高精度加工设备,推动了半导体的演进。需要微米级和纳米级精度的专用加工设备,高度集成各种技术的**制造设备。荏原在半导体制造设备方面的优势荏原半导体制造设备凭借jianduan技术和zhuoyue可靠性,助力提升半导体制造效率。我们的产品系列包括:结构独特、运行速度快、产能高的化学机械抛光(CMP)设备;可实现...
+
-
技术文章
为了满足客户需求,我们正在建设一座新的“干式真空泵”自动化工厂。
新建一座自动化工厂将建立一个能够满足全球半导体需求的生产系统。这家精密电子公司致力于研发jian端产品,并从生产技术的角度融合新科技,以开发最佳生产方法。尤其是在自动化方面,公司于2018年为其主要产品——干式真空泵——建立了一座全新的自动化工厂,并持续改进生产流程,以推动公司发展。工厂内部采用基于物联网的自动化技术实时管理生产和运营状态。这使得加工、组装和物流流程能够高效运行,并能适应需求波动。此外,工厂还建立了一套系统,实现了从机械加工到组装和测试的一体化生产,所有环节均...
+
-
技术文章
什么是干式真空泵?
干式真空泵的特点在半导体制造工艺以及对洁净度要求ji高的FPD、LED和太阳能电池制造工艺中,干式真空泵是bu可或que的设备。近年来,由于其能够轻松地为质谱仪和电子显微镜等分析仪器提供洁净的排气,干式真空泵的应用范围不断扩大。此外,其洁净的真空环境和便捷的维护特性也使其在真空干燥和薄膜沉积等各种应用中得到越来越广泛的应用。荏原干式真空泵的优势1.无油清洁真空;2.可从大气压达到高真空;3.无需定期维护,例如加水或更换油。荏原干式真空泵以其高能效和紧凑的尺寸而著称,广泛应用于...
+
-
技术文章
我们正在利用“平面化技术”解决小型化和高集成度问题。
肉眼不可见的微观层面。纳米尺度领域备受推崇的平面化技术。半导体内部采用多层布线,即使是轻微的不规则性也会影响电路的精确堆叠。因此,需要对半导体表面进行反复的平面化处理。荏原集团的CMP(化学抛光)系统正是用于完成这一平面化工艺,其市场fen额位居quan球第二。化学机械抛光(CMP)设备执行一系列步骤,包括晶圆平坦化、清洗和干燥。由于布线宽度以纳米(nm)为单位,平坦化也需要纳米级的精度。具体来说,对于直径为30厘米的晶圆,平坦化精度可达10纳米以内。如果将该晶圆与山手线内的...
+
-
技术文章
通过“废气处理技术”为可持续发展的社会做出贡献
支持先进产业和全球环境的“废气处理设备”。最近話題の生成AIや自動運転、スマートフォンなど、テクノロジーの進化に半導体は欠かすことができません。その半導体の製造プロセスは数百工程あると言われており、その工程の多くでさまざまな特殊なガスが使用されています。こうしたガスは各国の法令に準拠した上で、環境に配慮した形で適切に処理して工半导体是技术发展bu可或que的一部分,包括近年来备受关注的生成式人工智能、自动驾驶和智能手机等领域。半导体制造过程据说包含数百道工序,其中许多工序都会...
+
-
技术文章
干式真空泵:一种创造洁净环境的真空技术。
干式真空泵创造了半导体制造所必需的真空空间。提到“真空”,你会想到什么?或许你会想到像外太空那样“空无一物”的状态。如今,真空技术已被广泛应用于各种产品中,从我们生活中bu可或que的智能手机和电脑等电子设备,到我们日常使用的保温瓶,甚至包括用于jian端物理实验的粒子加速器。其中,真空技术在半导体制造领域尤为重要。在半导体衬底晶圆的加工过程中,需要使用真空泵将加工空间(称为腔室)内的空气抽出,以最大限度地提高真空度并防止杂质(例如气体分子)污染。荏原公司精密电子有限公司生产...
+
-
技术文章
支持繁荣社会的“CMP设备”平坦化技术
CMP机器拥有quan球di二大的市场fen额,能够以ji高的精度将表面抛光至wan美平整。你想知道一些事情,或者想听一些音乐。在这种情况下你会怎么做?很多人可能会用智能手机或平板电脑连接互联网。半导体对于这些智能设备和互联网都至关重要。半导体也让生活更加便捷,例如远程控制家里的空调或给浴缸注满热水。荏原公司精密电子有限公司生产用于化学机械抛光(CMP)工艺的半导体制造设备,CMP是半导体制造工艺之一。半导体具有多层结构,产品越先进,层数越多。这就需要使用CMP设备对晶圆进行...
+
-
技术文章
二氧化碳注入泵/压缩机 (用于碳捕获与封存(CCS)系统)
我们正在通过碳捕获与封存(CCS)来应对减少二氧化碳排放的挑战。少二氧化碳(CO₂)排放是我们展望全球环境未来时面临的一项挑战。虽然生活垃圾分类和回收利用固然重要,但日本超过60%的二氧化碳排放来自发电厂、钢铁厂、化工厂和其他工厂,忽视这一方面意味着我们在实现可持续发展目标方面所做的努力还不够全面。作为我们为建设低碳社会所做贡献的举措之一,本公司正致力于通过二氧化碳捕集与封存(CCS)技术减少二氧化碳排放,并将继续迎接挑战,着眼于二氧化碳和人类社会的未来。CCS所需的压缩机和...
+
-
技术文章
BARA荏原干式真空泵的技术解析与选型指南
在半导体、精密制造、洁净化工与医药灭菌等工业领域,BARA荏原干式真空泵是保障工艺洁净、生产稳定的核心装备。凭借成熟的干式真空技术、稳定的运行性能与多样化机型适配能力,成为真空制程的设备。本文结合技术特点与工业使用场景,分点解析其核心技术原理,并梳理标准化选型思路。一、核心技术原理BARA荏原干式真空泵采用无油腔体结构设计,摒弃传统油泵的润滑油密封与润滑模式,依靠精密转子耦合运转完成气体输送。内部通过双转子精准配合,在旋转过程中形成密闭腔体,持续完成吸气、压缩与排气的循环流程...
+
-
技术文章
半导体真空泵选型参数核对清单
半导体真空泵选型参数核对清单基础真空参数项目标工作真空度:需比工艺要求高1-2个数量级,预留足够裕量极限真空度:确认实测值不低于标称值,优先选择≤10⁻²Pa的机型抽速曲线:核查目标工作区间内抽速波动≤5%,保证腔室压力稳定最大允许背压:匹配产线尾气排放系统压力,避免过载停机洁净与安全项无油等级:确认全气体通路无密封油,总烃残留≤1ppm,杜绝晶圆污染泄漏率:整机泄漏率≤3×10⁻⁹Pa·m³/s,适配有毒工艺气体场景泵体材质:接触腐蚀性气体的部件采用316L不锈钢或...
+